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蔡司Xradia Ultra系列
納米級X射線成像——開啟科學(xué)探索之門
同步輻射X射線納米CT能夠?qū)崿F(xiàn)納米級的無損三維成像，但您只能申請非常有限的線站機(jī)時(shí)。如果不用等待同步輻射的時(shí)間呢？想象一下，如果您在自己的實(shí)驗(yàn)室里就能進(jìn)行同步輻射實(shí)驗(yàn)該有多好。有了蔡司Xradia Ultra系列產(chǎn)品，就意味著您擁有了一臺可以提供同步輻射納米級圖像分辨率的高質(zhì)量三維無損X射線顯微鏡（XRM）。該系列有蔡司Xradia 810 Ultra和蔡司Xradia 800 Ultra兩種型號供您選擇，它們都是為您在常用的應(yīng)用中獲得出色圖像質(zhì)量而定制的。您要求極高的研究值得擁有出色的圖像質(zhì)量和可靠的系統(tǒng)來加以輔助。Xradia Ultra采用來源于同步輻射的先進(jìn)X射線光學(xué)技術(shù)，將其應(yīng)用到實(shí)驗(yàn)室設(shè)備中。因此，您可以在實(shí)驗(yàn)室中按照您既定的計(jì)劃完成同步輻射水平的納米CT。使用納米級三維X射線成像，加快您在材料研究、生命科學(xué)、自然資源和工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域的研究進(jìn)展。
優(yōu)勢：
在樣品的自然狀態(tài)下對其進(jìn)行無損成像?？刹捎藐P(guān)聯(lián)工作流程，為后續(xù)的其他研究保存樣品，或進(jìn)行特別的原位三維實(shí)驗(yàn)。
利用空間分辨率可達(dá)50nm、體素尺寸低至16nm的真正的納米級三維X射線成像，您可以獲得更多信息，識別更微小的細(xì)節(jié)特征。
用三維和四維的原位實(shí)驗(yàn)研究微觀結(jié)構(gòu)的演變。
全面表征樣品：對測量的納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行量化，并將所得數(shù)據(jù)用于建模輸入。
還可同時(shí)研究軟硬材料等各種不同的樣品類型，并通過吸收和Zernike相位襯度提高圖像質(zhì)量。
在進(jìn)行同步輻射實(shí)驗(yàn)之前預(yù)先篩選樣品，充分利用申請到的機(jī)時(shí)。
產(chǎn)品亮點(diǎn)
用無損納米級成像為您的研究增光添彩
利用上乘的無損成像，在自然狀態(tài)下以三維方式觀察納米級現(xiàn)象。
這是一款填補(bǔ)亞微米級圖像分辨率XRM（如蔡司Xradia Versa）和分辨率更高但具有破壞性的三維成像系統(tǒng)（如FIB-SEM）之間空白的儀器。
使用集成的原位解決方案，在您的實(shí)驗(yàn)室就能進(jìn)行圖像分辨率高達(dá)50 nm、體素尺寸低至16 nm的先進(jìn)的無損三維/四維X射線成像。
將這些特殊的功能添加到您的分析組合中，加速您的研究。
蔡司Xradia Ultra光學(xué)元件來源于同步輻射技術(shù)，讓您在自己的實(shí)驗(yàn)室中就能實(shí)現(xiàn)納米級成像和出色的襯度。
實(shí)現(xiàn)出色的襯度和圖像質(zhì)量
在不破壞您的樣品情況下，切片不會有偽影的影響，以三維方式觀察缺陷。
利用吸收和Zernike相位襯度，以出色的襯度和圖像質(zhì)量顯示細(xì)節(jié)。將兩種模式的數(shù)據(jù)結(jié)合起來，能夠顯示出單一襯度無法實(shí)現(xiàn)的特征。
Xradia 810 Ultra和Xradia 800 Ultra都能為您*常用的應(yīng)用提供出色的圖像質(zhì)量。如何選擇型號，取決于您希望獲得的襯度、通量和不同透過率的材料類型。
使用Xradia Ultra，可獲得具有同步輻射效果的納米級X射線成像。
松針的二維重建切片 Zernike相位襯度（ZPC）模式 吸收襯度
拓展您實(shí)驗(yàn)室的界限
同步輻射品質(zhì)的成像效果讓您的研究水平更上一層樓。消除同步輻射裝置上的準(zhǔn)入障礙， 在自己的實(shí)驗(yàn)室中就能按計(jì)劃獲得相似的納米級成像效果。
進(jìn)行以前在基于實(shí)驗(yàn)室的成像中不可能實(shí)現(xiàn)的四維和原位研究。
進(jìn)行原位力學(xué)、熱、電化學(xué)和環(huán)境測試。
使用關(guān)聯(lián)工作流并連接到其他成像分析方法（如蔡司Xradia Versa、蔡司Crossbeam、分析）。通過包括專用的Python API在內(nèi)的簡化用戶界面，為廣大成像裝置用戶提供服務(wù)。
在進(jìn)行原位壓縮實(shí)驗(yàn)前用Zernike相位襯度成像的三維打印納米晶格結(jié)構(gòu)。樣品由德國卡爾斯魯厄理工學(xué)院的R. Schweiger提供。
技術(shù)
在一個(gè)特殊的裝置中使用X射線解析納米級的特征
對于旨在用三維無損和納米級圖像分辨率來全面表征樣品的顯微技術(shù)人員來說，他們需要能夠提供以下功能的光學(xué)元件：
* 納米級圖像分辨率的三維斷層成像數(shù)據(jù)集
* 出色的圖像質(zhì)量
* 聚焦效率
* 在有限的實(shí)驗(yàn)時(shí)間內(nèi)獲得優(yōu)良的信號
* 在低吸收樣品中也能顯示出特征
過去，要制造出堅(jiān)固且高效的X射線光學(xué)元件非常困難，這阻礙了可實(shí)現(xiàn)高分辨率成像的X射線顯微鏡的發(fā)展。蔡司Xradia Ultra采用了來源于同步輻射研究的先進(jìn)光學(xué)元件，使您能夠充分利用X射線的非破壞性，在實(shí)驗(yàn)室中完成納米級的三維成像。
通過使用以下元件，您可盡享來源于同步輻射的架構(gòu)的優(yōu)點(diǎn)：
反射毛細(xì)管聚光鏡，可在*大通量密度下匹配光源特性和圖像
菲涅爾波帶片物鏡，獲得專利的納米加工技術(shù)為您的研究提供出色的圖像分辨率和聚焦效率
用于Zernike相位襯度的相位環(huán)，可顯示低吸收樣品的細(xì)節(jié)
基于閃爍體的高襯度、高效探測器，與CCD探測器光學(xué)耦合，在有限的實(shí)驗(yàn)時(shí)間內(nèi)為您提供優(yōu)良的信號
隨著樣品的旋轉(zhuǎn)，可以收集到各種投影角度的圖像并將其重建為三維斷層數(shù)據(jù)集
